中国、国産浸液DUV半導体製造装置の生産開始

中国が自国製の浸液深紫外線（DUV）リソグラフィ装置の生産を開始したと、ロイター通信が2026年7月28日に匿名の情報源の話として報じた。この動きは、米国とその同盟国による輸出規制が強化される中、中国が半導体サプライチェーンの自給自足を目指す上で重要な一歩となる。

このニュースは、世界の半導体装置メーカーや半導体株に直接影響を与えた。ブルームバーグによると、最先端リソグラフィシステム市場を独占するオランダのASMLの株価はこの報道を受けて下落した。テレグラフ紙は、この報告が世界的なテクノロジー株の急落を引き起こしたと伝えている。

浸液DUV装置は、スマートフォンから人工知能システムに至るまで、あらゆる先端チップの製造に不可欠である。中国がこれらの装置を国内で生産できれば、外国製サプライヤーへの依存を減らし、地政学的緊張の焦点となっている世界の半導体産業の競争構造を変える可能性がある。

ロイターの独占記事は、匿名の情報源を引用し、中国が国産の浸液DUV半導体製造装置の生産を開始したと述べた。具体的な生産量や技術仕様、関与する中国企業の名前は明らかにされていない。

中国は長年、「中国製造2025」イニシアチブの下で半導体セクターに多額の投資を行い、主要技術の自給自足を目指してきた。しかし、特に米国による輸出規制が進展を妨げ、中国の先端半導体製造装置やノウハウへのアクセスを制限してきた。これまでの報道では、中国が競争力のあるリソグラフィシステムの開発に苦戦していることが強調されており、今回の進展は未確認ながら注目すべきものとなっている。

この報告は大きな進歩を示唆するものの、CNBCはこの進展には重大な留保があると指摘しており、その能力や生産規模は業界リーダーに依然として及ばない可能性がある。今後の展開としては、業界アナリストや政府が中国の装置の真の技術水準と量産可能性を精査し、さらなる輸出規制措置が検討される可能性がある。